リソグラフィ材料市場レポート　2025-2026年

Lithography Materials Market Report 2025-2026

プレスリリース

[抄訳]リソグラフィ材料市場は大きく発展 – TECHCET予測

2025年5月6日、カリフォルニア州サンディエゴ

フォトリソグラフィ材料収益は半導体市場の復調が後押しし、2025年末までに50億6,000万ドルに達し、7％の成長になるとTECHCETでは予測しています。この成長は先端フォトレジスト、特にEUVの著しい需要増加が促進要因となり、前年比30％の成長が期待されています。付属品と拡張材料もロジックおよびDRAMチップセグメントにおける先端ノードデバイスにおいて特にチップ製造量の増加に従い、成長の加速が予想されます。さらにTECHCETではリソグラフィ材料市場が2029年までには年平均成長率（CAGR）6％で成長するとも予測しています。

リソグラフィ材料は成長傾向へ

PFASの排除努力によりフォトレジストの代替品への移行が進む見込み

2024年8月8日、カリフォルニア州サンディエゴ

電子部品のアドバイザリー企業としてビジネス情報および技術情報を提供するTECHCETでは半導体用フォトレジストの収益の増加が2024年中に11％近くになると予測しています。2024年は半導体市場全体の復調も期待されており、特に2024年下半期にはあらゆるレジストに対する需要が増加すると期待されています。また、フォトレジスト付属品についても10％前後の増加と9％前後の拡張が予想されています。

「従来の利用方法[i線、g線、248nm （KrF）]が従来型デバイス、3D NAND、そして”最小ではない”特徴を持った先進機器向けに使用されていることがリソグラフィ材料の促進要因になっていると言えます。」（TECHCET技術部門最高戦略責任者Karey Holland博士）フォトリソグラフィ材料の数量はチップ製造業界全体の投入ウエハー（Wafer Start）が決め手となっています。「先端リソグラフィ[(193nm (ArF) and EUV]についても、先進ロジックとDRAMの微細化に向けた工程段階に進むために成長を続けています。」

欧州と米国におけるPFAS関連化学品排除に向けた最近の動きにより、今後のフォトレジスト材料化合物への影響が徐々に進んでいくと予想されてます。光酸発生剤（PAG）化合物を使用するフォトレジストは、代替品への転換という課題を持ちつつも、認可の下、長年に渡り使用されてきました。数多くの企業や大学が非PFAS関連光酸発生剤（PAG）の開発に取り組んでいますが、全ての要件に合う結果はまだ出ていません。そのため、完全にPFASを含まないPAG代替品と効率的な移行には5-10年がかかると予想されています。