CMPパッドコンディショナー、PVAブラシ、スラリーフィルター、リテーナーリング市場　2024年

CMP付属品市場は2025年に倍増へ～ウエーハの復調と生産能力拡大が需要の促進要因

TECHCETでは半導体製造用CMPパッドコンディショナー、PVAブラシ、POUスラリーフィルター、リテーナーリングを含む）の収益が2025年に約11％増加し、11億5000万米ドルに達すると予測しています。この増加は主にウェーハの復調とCu/W金属CMP工程での使用の増加が促進要因とみられています。2024年には約5％の緩やかな回復を見せ、またCMPパッドコンディショニングディスクは最大の収益と数量シェアを占めることが見込まれています。

TECHCET（テクセット）「CMP付属品：パッドコンディショナー、PVAブラシ、スラリーフィルター、リテーナーリング市場　2024年 – CMP Ancillaries: Pad Conditioners, PVA Brushes, Slurry Filters & Retaining Rings Markets」は半導体製造用CMパッドコンディショナー、PVAブラシ、スラリーフィルター、リテーナーリングの市場およびサプライヤーを詳細に調査し、市場動向、市場予測、20社以上の主要サプライヤ―情報を提供します。

主な掲載内容

• エグゼクティブサマリー
• 調査範囲とメソドロジー
• 半導体業界の市況と展望
• CMP付属品市場動向
• CMPパッドコンディショニングディスクの市場データと予測
• CMP POUスラリーフィルターの市場データと予測
• CMP PVAブラシサプライヤの市場データと予測
• CMPリテーニングリングサプライヤの市場データと予測
• サプライヤ情報
  • 3M
  • Abrasive Technology
  • Ehwa Diamond
  • Entegris
  • Kinik　　など20社以上をカバー

Analyst Biography

Karl Robinson, Ph.D. – Received a chemical engineering bachelors with specialties in colloids, polymers and surface science from Carnegie-Mellon University. This was followed by a MSc and PhD in chemical engineering and surface science from Case Western Reserve University. A NRC post- doc at the Naval Research Laboratory and a von-Humboldt scholarship at KFA- Juelich in electrochemistry and self-assembly provided the combined experience at the beginning of the CMP process development in the early 1990’s. The result was 150+ patents in CMP process and CMP integration. This was followed by years of process integration in memory and logic developments and the development of various advanced platforms in film deposition, such as PECVD, PEALD and thermal ALD programs. This led to process engineering director at imec governing the function of the 200mm and 300mm fabs and now as senior director of process and integration of novel ferro-electric films and devices.